芬蘭埃斯波和東京2020年9月14日 /美通社 / -- 長瀨產(chǎn)業(yè)株式會社(NAGASE & CO. Group)旗下公司、硅氧烷基光學透明Nano-Imprint Lithography（納米壓印光刻）(NIL)材料領域的全球領導者Inkron對NIL材料和組件開發(fā)基礎設施進行了戰(zhàn)略投資。此次投資將顯著加快Inkron開發(fā)高性能光學材料的進程，這些材料是增強現(xiàn)實(AR)眼鏡、3D傳感器和其他衍射光學元件(DOE)關鍵部件所需的。通過此次投資，Inkron將大幅增強其能力，更好地為客戶提供定制光學NIL材料，同時交付時間快，性能也得到了提高。Inkron目前還可以為客戶提供組件原型開發(fā)和小批量生產(chǎn)服務。
圖標：https://kyodonewsprwire.jp/img/202009043950-O1-ac34Ag78
圖1. 使用EVG工具和Inkron的高折射率IOC樹脂在SCHOTT基底上壓印納米壓印衍射結(jié)構(gòu)https://kyodonewsprwire.jp/prwfile/release/M105348/202009043950/_prw_PI2fl_ft6dgP0t.jpg
圖2. EVG 7200 SmartNIL (R) UV納米壓印光刻系統(tǒng)https://kyodonewsprwire.jp/prwfile/release/M105348/202009043950/_prw_PI3fl_81TjkWTR.jpg
此次投資的最重要部分是從EV Group （簡稱EVG）購買EVG (R) 7200 UV NIL自動化系統(tǒng)并對其進行安裝。EVG 7200系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL (R)技術(shù)和材料專業(yè)知識，支持微納米和納米級結(jié)構(gòu)的大規(guī)模生產(chǎn)，同時實現(xiàn)了無與倫比的質(zhì)量。該系統(tǒng)提供低作用力和共形壓印，快速高功率曝光及平整的壓印脫離，支持無與倫比的生產(chǎn)量和低擁有成本。采用SmartNIL技術(shù)的EVG 7200系統(tǒng)非常適合批量生產(chǎn)用于AR和虛擬現(xiàn)實(VR)等應用的新一代光子器件（包括波導和DOE）。除了這些功能之外，這款已交付給Inkron的工具還提供高強度紫外線站和加熱卡盤，并支持將軟UV-NIL材料用于微透鏡成型應用。
Inkron提供NIL加工材料，折射率范圍廣，甚至可達到2.0。NIL材料與涂層、縫隙填充和平面化涂層形成互補，折射率低至1.1。這些材料平臺與EVG 7200系統(tǒng)相結(jié)合，為新型光學組件的開發(fā)提供了理想的基礎設施，在加快交付時間的同時，優(yōu)化了特殊器件的樹脂和工藝。除了NIL設備之外，Inkron還對光學結(jié)構(gòu)制造和測試設備進行重大投資，包括設備性能和可靠性測試，并將繼續(xù)加大在這方面的投資。該公司成立了為Inkron NIL生態(tài)系統(tǒng)提供支持的專業(yè)團隊，該團隊由副總裁Janne Kylma博士領導，成員包括材料科學家、光刻工藝工程師和光子學專家。Inkron運營副總裁Jukka Perento則負責指導商業(yè)NIL活動。
EV Group企業(yè)技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger表示：“EV Group通過NILPhotonics能力中心與Inkron等來自整個光子學供應鏈的公司合作，利用我們的NIL技術(shù)和專業(yè)知識，加快新設備和應用的開發(fā)。通過與Inkron合作，我們有機會支持他們開發(fā)對生產(chǎn)新一代光學器件至關重要的先進光阻劑?！?
Jukka Perento稱：“我們很高興能加快開發(fā)我們經(jīng)過優(yōu)化和創(chuàng)新的新型光學樹脂技術(shù)。新款EVG 7200系統(tǒng)在這項戰(zhàn)略舉措中發(fā)揮著至關重要的作用。這些新能力將幫助我們解決客戶的關鍵性能問題，并幫助他們?nèi)〉贸晒ΑＮ覀兊募{米壓印高折射率材料和匹配的縫隙填充涂料，與EVG的NIL系統(tǒng)相結(jié)合，為光學制造商提供他們所需的關鍵晶圓級解決方案，幫助他們快速擴大其最新研發(fā)成果的生產(chǎn)規(guī)模?！?/p>
Inkron網(wǎng)站：
http://inkron.com/
EV Group網(wǎng)站：
https://www.evgroup.com/company/about-evg/
