用于三星和格羅方德14納米鰭式場效晶體管
俄勒岡州威爾遜維2014年6月3日電 /美通社/ -- 繼三星電子和格羅方德 (GLOBALFOUNDRIES) 宣布一項戰(zhàn)略合作進行多源14納米鰭式場效晶體管制造之后，Mentor Graphics Corp. (NASDAQ: MENT) 今天透露，客戶將能夠使用相同的 Calibre® 平臺用于驗收驗證面向三星或格羅方德晶圓廠生產(chǎn)線的集成電路設(shè)計。通用性已經(jīng)延伸至可制造性設(shè)計 (DFM) 評分，幫助客戶確保其設(shè)計得到充分優(yōu)化，能夠較大程度地利用先進的14納米鰭式場效晶體管制造工藝。“制造分析和評分”(MAS) 平臺可區(qū)分不同 DFM 效果的優(yōu)先次序，并針對如何更改設(shè)計以最小化這些影響提出建議。
(Photo： http://photos.prnewswire.com/prnh/20140317/AQ83812LOGO )
14納米鰭式場效晶體管的驗收包括用于雙重曝光設(shè)計規(guī)則檢查、版圖與原理圖對查比較、模式匹配驗證、光刻友好型設(shè)計以及先進填充制造設(shè)計的平臺。在14納米驗收套件中納入 DFM 評分平臺開了行業(yè)之先河，可確保一致的驗收環(huán)境。這是確?？蛻艄?yīng)戰(zhàn)略的關(guān)鍵因素，只有通過全球多個供應(yīng)源的真正設(shè)計兼容來實現(xiàn)。
14納米鰭式場效晶體管工藝由三星開發(fā)，授權(quán)給格羅方德，經(jīng)過優(yōu)化適用于大容量節(jié)能系統(tǒng)芯片設(shè)計。其優(yōu)勢包括三維全空乏鰭式場效晶體管，能夠克服平面晶體管技術(shù)的局限性，與20納米平面技術(shù)相比，它的速度最多能提高20%，功耗減少35%，面積縮小15%。
三星電子晶圓代工營銷副總裁 Shawn Han 博士表示：“我們使用 Calibre 平臺作為我們設(shè)計規(guī)則手冊驗證的參考工具，因此 Calibre 平臺是我們客戶首先用到。由于 Calibre 是面向我們主要客戶的領(lǐng)先驗收工具之一，我們將有很大的信心保證他們的14納米鰭式場效晶體管設(shè)計在三星和格羅方德全球產(chǎn)能范圍內(nèi)的任何一個晶圓廠都能用于生產(chǎn)?！?/p>
Calibre 平臺創(chuàng)造了分解式雙重曝光版圖，這符合三星所有的14納米光刻要求，并針對三星光罩合成和有機光導(dǎo)體工藝進行了調(diào)整，Mentor 也提供14納米工藝。它通過 Calibre 模式匹配為設(shè)計師提供了有關(guān)鰭式場效晶體管復(fù)雜設(shè)計規(guī)則的快速反饋，并通過 Calibre LFD? 產(chǎn)品提供詳細指導(dǎo)來消除 DFM 光刻錯誤，從而更快、更準確地修正違規(guī)行為。用于版圖與原理圖對查比較和萃取的 Calibre 工具已進行校正，來確保精確的設(shè)備和寄生模型用于三星鰭式場效晶體管。此外，Calibre SmartFill 可以實現(xiàn)平面化，同時通過智能放置填充結(jié)構(gòu)來最小化時間問題。
Mentor Graphics“設(shè)計至硅片”(Design to Silicon) 部門副總裁兼總經(jīng)理 Joseph Sawicki 表示：“我們非常高興參與這項新的多源協(xié)作，這可以幫助無晶圓廠半導(dǎo)體公司獲得鰭式場效晶體管技術(shù)，率先取得硅成功和供應(yīng)保障。Calibre 平臺的開放和我們對于三星較新技術(shù)的強大規(guī)則平臺支持為無晶圓廠客戶提供了更多的選擇和靈活性，幫助他們保持在其目標(biāo)設(shè)備市場的領(lǐng)先地位?！?/p>
了解有關(guān) Mentor Graphics 與三星之間合作的更多信息，請光臨三星在6月2-4日舊金山設(shè)計自動化會議 (Design Automation Conference) 上的展位。具體日期和時間請參見 Mentor 和三星網(wǎng)站 (www.samsung.com/us/DAC2014)。
