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盛美300mm單片清洗設(shè)備又獲三臺(tái)訂單,挺進(jìn)國際主流半導(dǎo)體生產(chǎn)線

2015-03-13 14:11 10022
2015年1月,盛美半導(dǎo)體再次獲得海力士(SK Hynix)三臺(tái)8腔體單片清洗機(jī)訂單,使得該公司目前銷售到海力士大生產(chǎn)線上的設(shè)備數(shù)量累計(jì)已達(dá)7臺(tái)。

上海2015年3月13日電 /美通社/ -- 2015年1月,盛美半導(dǎo)體再次獲得海力士(SK Hynix)三臺(tái)8腔體單片清洗機(jī)訂單,使得該公司目前銷售到海力士大生產(chǎn)線上的設(shè)備數(shù)量累計(jì)已達(dá)7臺(tái)。

盛美半導(dǎo)體的首席執(zhí)行官王暉談到“得到海力士的批量重復(fù)訂單,標(biāo)志著盛美半導(dǎo)體的300mm單片清洗機(jī)在產(chǎn)品良率提升上有突出表現(xiàn),機(jī)臺(tái)性能及穩(wěn)定性等各方面已經(jīng)能夠全面滿足國際主流大生產(chǎn)線22nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的嚴(yán)格要求。”

海力士在生產(chǎn)集成電路過程中,薄膜沉積(Si3N4,Oxide,Carbon..)后、CMP后、Barrier Metal 沉積前、深孔蝕刻后等多個(gè)工藝流程都需要進(jìn)行清洗。上述3臺(tái)配備了盛美半導(dǎo)體獨(dú)家專利技術(shù)“空間交變相位移兆聲波技術(shù)”的設(shè)備,通過配合適當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)藥液(如SC-1, H2-功能水等),可在微小顆粒(小于65nm)去除,化學(xué)氧化層控制以及深孔清洗等工藝表現(xiàn)上優(yōu)于國際市場(chǎng)上美國, 日本主流設(shè)備商的單片清洗機(jī)。

海力士在2011年被韓國的SK集團(tuán)收購,是世界第二大DRAM(最常見的一種系統(tǒng)內(nèi)存)制造商,公司規(guī)模在整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)名列第四位。

消息來源:盛美
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